6月12日、『Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology』(JM3)誌に掲載された論文において、沖縄科学技術大学院大学(OIST)の新竹 積教授は、高開口数(High-NA)EUVリソグラフィーで使用される照明システムおよびプロジェクターの抜本的な再設計につき報告しました。詳細な数値シミュレーションの結果、これまで回避できないと信じられていた光学的な悪影響(いわゆる「マスク3D」効果)を排除し、さらに解像度を向上させ、現在のEUV露光装置よりも小型で低コスト、低消費電力の露光装置が実現できることを示しました。